摘要:该数据集来源于真实半导体制造过程生成的晶圆图图像,用于晶圆缺陷检测与多类别分类。
数据集概述
该数据集来源于真实半导体制造过程中形成的晶圆图图像,主要用于晶圆缺陷模式识别与多类别图像分类。数据集包含中心缺陷(Center)、甜甜圈状缺陷(Donut)、局部边缘缺陷(Edge-Loc)、边缘环状缺陷(Edge-Ring)、局部缺陷(Local)、近全局缺陷(Near-Full)、正常晶圆(Normal)、随机缺陷(Random)和划痕缺陷(Scratch)共9个类别,能够反映不同制造异常在晶圆表面的空间分布特征。
数据结构与关键特征
数据集根目录为First dataset making from Third,下设train、valid和test三个数据子集,分别用于模型训练、参数验证与最终性能测试。每个子集均按照上述9个类别建立独立文件夹,采用类别目录形式组织晶圆图像,可直接用于深度学习图像分类任务。数据具有缺陷类型丰富、空间分布差异明显、类内形态变化较大和类别数量不均衡等特征,部分罕见缺陷样本较少,对模型的特征提取能力和泛化能力提出了较高要求。
应用价值与研究方向
该数据集可用于半导体晶圆缺陷自动分类、制造过程异常诊断、生产良率分析、在线质量检测和智能制造系统开发。相关研究可围绕卷积神经网络、视觉Transformer、迁移学习、少样本学习、类别不平衡处理、数据增强、缺陷特征可视化、模型可解释性及轻量化部署等方向展开,通过准确识别不同晶圆缺陷模式,辅助分析光刻、蚀刻、沉积和设备污染等制造环节中的潜在问题,提高半导体生产效率与质量控制水平。
数据集来源
由张家梁(Bob)整理并于2026年在7zcode平台公开发布。
数据集信息
免责声明与引用
数据仅用于科研与教学用途。若用于商业场景,请自行核验数据许可。如需引用,请在论文或报告中注明数据集名称与版本号。
作者信息
作者:Bob (张家梁)
项目编号:Datasets-695
文件大小:300M
原创声明:本数据集为整理作品
联系方式

开源协议
本项目采用AGPL-3.0开源协议,允许个人和组织自由使用、修改和分发代码,但基于本项目的衍生作品必须同样开源,且用于提供网络服务时需向用户提供完整源代码。本项目仅供学习研究使用,作者不对使用本项目产生的任何后果承担责任,使用者应遵守当地法律法规,合理合法使用本项目。如本项目对您的研究或工作有所帮助,欢迎引用并注明出处。


评论(0)